성능 검증
상용 분광타원계로 두께가 확인된 SiO₂ 박막을 기준 시료로 삼아 측정한 결과입니다. 모든 값은 실측 데이터입니다.
상용 장비 대비 측정 결과
| 시료 | 상용 장비 | 초기값 | 평균 | 표준편차 |
|---|---|---|---|---|
| 1472.3 nm SiO₂ | 1472.3 | 1472.4 | 1471.8 | 0.4 |
| 496 nm SiO₂ | 496.0 | 496.7 | 496.5 | 0.2 |
단위: nm
장기 안정성
보상 채널 없이 오프셋 피팅만으로 20분간 연속 측정한 결과입니다. 평균 1472.66 nm, 표준편차 0.27 nm로, 상용 장비 측정값 1472.3 nm와 일치합니다.
- 평균
- 1472.66nm
- 표준편차
- 0.27nm
측정 조건
- 적분 시간
- 23ms
- 평균 횟수
- 20회
- 파장 범위
- 493.81 – 679.63 nm
- Δ 측정 간격
- 3s
실시간 측정 및 피팅
측정 중 두께와 입사각을 동시에 피팅합니다. 입사각을 함께 추정하는 이유는 시료 정렬 오차나 광학계 정렬 오차로 실제 입사각이 미세하게 달라질 수 있기 때문입니다.
엣지 디바이스 동작
Windows 노트북뿐 아니라 Linux 기반 엣지 디바이스에서도 측정과 모니터링이 동작하는 것을 확인했습니다. 임베디드 구성으로 발전시킬 수 있음을 보여줍니다.
측정 조건에 대하여
위 데이터는 SiO₂ / Si 시료에 대해 493.8 – 679.6 nm 대역, 45° 고정 입사각에서 얻은 값입니다. 400 – 500 nm 구간을 사용하지 않은 이유는 이 대역에서 편광자의 소광비가 낮아 정확한 Δ를 얻기 어렵기 때문입니다. 다른 물질과 두께 범위에 대한 검증은 진행 중입니다.