검증된 성능
- 측정 속도
- > 20Hz
- Δ 정밀도
- < 0.1°
- 두께 반복도 (STD)
- 0.4nm
- 센서 유닛
- 141 × 50 × 105mm
기존 분광타원계는 왜 느린가
상용 분광타원계는 편광자나 컴펜세이터를 회전시켜 편광 상태를 바꿉니다. 기계적 회전이 필요하기 때문에 한 점을 측정하는 데 수 초가 걸리고, 그동안 시료는 멈춰 있어야 합니다.
Cubo는 0°와 90°로 삽입한 두 장의 편광자로 편광 간섭 신호를 만드는 일체형 간섭계(MPI)를 사용합니다. 단 한 번의 스펙트럼 취득만으로 Δ를 추출하므로 회전 부품이 없고, 초당 20회 이상 연속 측정이 가능합니다.
그래서 무엇이 가능해지는가
변하는 시료를 측정합니다
증착이나 식각이 진행되는 동안의 두께 변화를 그대로 관측할 수 있습니다. 초 단위 측정으로는 볼 수 없던 구간입니다.
장비를 시료로 가져갑니다
센서 유닛은 141 × 50 × 105 mm입니다. 진동 격리 테이블이나 전용 실험실 없이 측정할 수 있습니다.
연구실 예산 안에 들어옵니다
상용 분광타원계는 대개 수억 원대입니다. Cubo는 개별 연구실이 직접 구매할 수 있는 가격대를 목표로 합니다.
상용 장비와 같은 값을 냅니다
상용 분광타원계가 1472.3 nm로 측정한 SiO₂ 박막을 20분 연속 측정한 결과입니다.
| 시료 | 상용 장비 | 초기값 | 평균 | 표준편차 |
|---|---|---|---|---|
| 1472.3 nm SiO₂ | 1472.3 | 1472.4 | 1471.8 | 0.4 |
| 496 nm SiO₂ | 496.0 | 496.7 | 496.5 | 0.2 |
단위: nm